nanoPVD-S10A
RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
高性能RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
連続多層膜・2源同時成膜・APC自動圧力制御
◉ 到達圧力:5 x10-5 Pascal
◉ 最大3源 Φ2"マグネトロンカソード
◉ 自動多層連続膜、同時成膜も可能
◉ 直感的操作 多機能ソフトウエア 'Intellidep'
◉ Windows PC接続用リモートソフトウエア'IntelliLink'付属
高性能RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置。小型ながら一般的な金属膜から、絶縁物、化合物など、膜質に妥協を許されないハイパフォーマンスを追求されるユーザーにもご満足いただける装置です。最大3源カソード、多層連続膜、同時成膜(*RFとDCの組合せのみ)の用途にも対応。ヒーター、回転・昇降、磁性材料用カソード、キャパシタンスマノメータによる高精度圧力制御などのオプションも豊富です。

優れた基本性能
- 到達真空度 5x10-5 Pascal
- SUS304 高真空チャンバー
- 素早い真空到達(1x10-3Paまで約10分)
- 膜均一性:±3%(絶縁膜)、±5%(金属膜)
高機能システム
- 7"タッチパネル画面で全ての操作・成膜制御・データ管理を一元管理
- 自動連続多層成膜コントロール
- 同時成膜(*RF-DC, DC-DCの2源同時成膜)
- APC制御(PID自動圧力コントロール)
- PLC自動シーケンス(真空引き・ベント)運転
豊富なオプション
- 基板回転・上下昇降
- 基板加熱ヒーター 500℃
- MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタ
- 磁性材料用高強度マグネットオプション
- ファストベント(最短6分)

高精度Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源)
- DC, RF, パルスDC兼用
- ターゲット交換が容易
- 傾斜アングル式

プロセスガス系統 最大3系統:反応性スパッタにも対応
- 7"タッチパネルより圧力・流量などの設定を一元管理
- 標準Ar 1系統、N2用・O2用増設可能
- 高精度プロセス圧力制御オプション

制御ソフトウエア『Intellidep』
- 直感的操作
- 全ての設定を7"タッチパネルで一元管理
- USBでWindows PC接続、CSV・ログデータ出力
- 最大1000Layer, 1000process, 50レシピ作成登録
主仕様
nanoPVD-S10A 標準構成 | nanoPVD-S10A-WA | |
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基板サイズ | Φ2inch・Φ4inch | Φ6inch・Φ8inch |
マグネトロンカソード | Φ2inch x 1源(標準) 2源増設可能 | |
スパッタ電源 | DC850W, RF150W(自動マッチング付属) 又はDC, RF両電源搭載 |
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プラズマリレーSw | 1:3(1電源入力→3カソード分配) 2:3(2電源入力→3カソード分配) |
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真空ポンプ | ターボ分子+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) | |
真空計 | WRGピラニーゲージ、キャパシタンスマノメータ(オプション) | |
マスフローコントローラー | 1系統(Ar)+ 追加2系統(N2, O2) | |
基板回転・昇降 | 10段階回転速度可変・50mm昇降 | |
基板加熱 | Max500℃ランプ加熱 | |
水晶振動子膜厚モニター | 1基 + 追加1基増設可能 | |
シャッター | ソースシャッター 基板シャッター | |
電源 | 200V 三相 10A 50/60Hz | |
冷却水 | 1rittoru/min 18-20℃ <400kpa(max) | |
圧縮空気 | 415〜4550kpa | |
ベントガス | N2 35kpa | |
'IntelliLink' Windows PC用リモートソフト | 付属USBケーブルで装置に接続 ・システムライブモニタリング(運転状態モニター) ・エラー解析 ・レシピ作成・保存・アップロード ・データロギング・CSVフォーマット出力 |