Advanced Function
高機能
洗練されたソフトウエア 'Intellidep'

MiniLab制御ソフトウエア
直感的操作・洗練されたソフトウエア "Intellidep"
難しい設定はなく、どなたでも操作いただけます。
- 7inchタッチパネル(又はWindows PC)で簡単操作
- 成膜条件設定、フィルムレシピ登録(最大50)読込
- 真空引き〜成膜操作~ベント自動シーケンス
- MFCガス流量・圧力設定
- システムログ、グラフ表示、データ出力管理
- 故障解析
PC制御の場合、WIndows用専用ソフトウエア"IntelliNet"での操作になります。

薄膜コントローラー SQC-310, SQM-160
Inficon社製 薄膜コントローラーSQC-310, SQM-160との組合せにより、より高度な成膜制御が可能。2ch又は4chセンサ入力、多数のマテリアルデータ、膜厚制御が可能です。
- 多数のマテリアルデータをプリセット
- 正確な膜厚制御(膜厚センサ+PID自動ループコントロール+自動シャッター開閉)
- 高度な成膜プログラムの作成
- 最大1000レイヤー、50レシピの登録
MiniLab seriesの操作インターフェイスは標準で7inchタッチパネル、オプションでWindows PC操作のいずれかを選択いただけます。
プラズマ スイッチングユニット

RF/DCプラズマスイッチユニット
複雑なプラズマ電源の分配・設定を容易にします。
- 2電源入力(Max RF600W, DC2KW)
- 4出力
- 手動(HMI-7"タッチパネル)、自動制御(SQC-310)
本器は、MiniLab-PVDシステムで用いられるRF/DC電源(2入力)を、4回路(カソード、ステージ)へ分配するスイッチリレーユニットです。本器の操作はHMI-7"タッチパネルIntellidepソフトウエアの設定を自動的に調整し分配します。ユーザーによる複雑な電源設定操作を必要としません。
ファスト・ベント・モジュール(*オプション)
通常約30分のベント時間を6〜10分に短縮します。
" 2 in 1 " system

抵抗加熱蒸着 + マグネトロンスパッタリング
2モジュール混在、装置1台のスペースで2種類の成膜実験
研究室の限られたスペースを有効活用します。
2種類の成膜を1台分のスペースで利用することができます。
MiniLabフレキシブルシステムではチャンバー内に異種ソースを混在させることができます。同時使用せずとも、豊富なベースポートを利用してソースを組込、19inchラックシステムに制御機器を設置すれば、場所を取らない2in1システムを構築することができます。

加熱ステージ + RIEエッチング
加熱ステージ:Φ4〜Φ6inch、3種類のヒーターオプション
- ハロゲンランプ Max500℃(真空中、不活性ガス中)
- C/Cコンポジット Max1000℃(真空中、不活性ガス中)
- C/Cコンポジット+SiCコート(真空・不活性ガス・O2)
RF/DCバイアス:Φ4〜Φ6inch

MiniLab-026チャンバー
MiniLab-026チャンバーを作業ベンチ内に設置。コンパクトなクラムシェル開閉式の為、作業ベンチ内で基板・材料の交換が容易に行えます。

090スライド開閉チャンバー
スライド開閉式ドアによりベンチ内にチャンバーを収納可能とし、チャンバー内基板・材料・ソース類へのアクセスを容易にします。

090-GBシステム背面
090チャンバーは背面もスライド開閉の為、裏側からのチャンバー内アクセスが可能。容易にメンテナンスを行うことができます。