MiniLab thin film deposition system

MiniLab制御ソフトウエア

直感的操作・洗練されたソフトウエア "Intellidep"

難しい設定はなく、どなたでも操作いただけます。

• 7inchタッチパネル（又はWindows PC）で簡単操作
• 成膜条件設定、フィルムレシピ登録（最大50）読込
• 真空引き〜成膜操作～ベント自動シーケンス
• MFCガス流量・圧力設定
• システムログ、グラフ表示、データ出力管理
• 故障解析

PC制御の場合、WIndows用専用ソフトウエア"IntelliNet"での操作になります。

薄膜コントローラー SQC-310, SQM-160

Inficon社製 薄膜コントローラーSQC-310, SQM-160との組合せにより、より高度な成膜制御が可能。2ch又は4chセンサ入力、多数のマテリアルデータ、膜厚制御が可能です。

• 多数のマテリアルデータをプリセット
• 正確な膜厚制御（膜厚センサ+PID自動ループコントロール+自動シャッター開閉）
• 高度な成膜プログラムの作成
• 最大1000レイヤー、50レシピの登録

MiniLab seriesの操作インターフェイスは標準で7inchタッチパネル、オプションでWindows PC操作のいずれかを選択いただけます。

RF/DCプラズマスイッチユニット

複雑なプラズマ電源の分配・設定を容易にします。

• 2電源入力（Max RF600W, DC2KW）
• 4出力
• 手動（HMI-7"タッチパネル）、自動制御（SQC-310）

本器は、MiniLab-PVDシステムで用いられるRF/DC電源（2入力）を、4回路（カソード、ステージ）へ分配するスイッチリレーユニットです。本器の操作はHMI-7"タッチパネルIntellidepソフトウエアの設定を自動的に調整し分配します。ユーザーによる複雑な電源設定操作を必要としません。

抵抗加熱蒸着 + マグネトロンスパッタリング

2モジュール混在、装置1台のスペースで2種類の成膜実験
研究室の限られたスペースを有効活用します。
2種類の成膜を1台分のスペースで利用することができます。

 
MiniLabフレキシブルシステムではチャンバー内に異種ソースを混在させることができます。同時使用せずとも、豊富なベースポートを利用してソースを組込、19inchラックシステムに制御機器を設置すれば、場所を取らない2in1システムを構築することができます。

加熱ステージ + RIEエッチング

加熱ステージ：Φ4〜Φ6inch、3種類のヒーターオプション

• ハロゲンランプ Max500℃（真空中、不活性ガス中）
• C/Cコンポジット Max1000℃（真空中、不活性ガス中）
• C/Cコンポジット+SiCコート（真空・不活性ガス・O2）

RF/DCバイアス：Φ4〜Φ6inch