Moorfield Nanotechnology社
【nanoCVDグラフェン/CNT合成装置】を使用して得られた研究成果が、下記の科学雑誌で発表されました。
- “LinkIconHigh Quality Monolayer Graphene Synthesized by Resistive Heating Cold Wall Chemical Vapor Deposition”
Advanced Materials誌, 2015, DOI: 10.1002/adma.201501600 (著者:Thomas H. Bointon, Matthew D. Barnes, Saverio Russo, Monica F. Craciun) - “LinkIconTransparent Conductive Graphene Textile Fibers”,
Scientific Reports誌, 2015, DOI: 10.1038/srep09866(著者:Neves, A. I. S., et al.,) - “LinkIconResidual Metallic Contamination of Transferred Chemical Vapor Deposited Graphene”,
ACS Nano誌, 2015, DOI: 10.1021/acsnano.5b01261(著者:Lupina, G., et al.,)
Blue Wave Sermiconductors Inc社技術文書
- 1kV 4H-SiC JBS Rectifiers Fabricated Using an AlN【 PDF 216KB 】
- Activation of Implanted Al and Co Implanted AlC or AlSi in 4H-SiC【 PDF 2.4MB 】
- AlN Deposition by MOVPE and PLD Used as an Encapsulate for Ion Implanted SiC【 PDF 215KB 】
- PLD AlN films for high temperature SiC MIS devices (740KB)【 PDF 742KB 】
- High quality optoelectronic grade epitaxial AlN films on a-Al2O3, Si and 6H-SiC by PLD【 PDF 787KB 】
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Calex Electronics社
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