超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃
様々なプロセス環境に対応
小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
| C/Cコンポジットヒーター | Max2000℃ |
|---|---|
| SiC3コーティングヒーター | Max1600℃ |
| TiC3コーティングヒーター | Max2100℃ |
C/Cコンポジット・SiC3コーティング・TiC3コーティングヒーター採用
最高温度2000℃
安全性・操作性を向上 ウエハーアニール専用 超高温マルチ雰囲気炉
新素材・材料開発、半導体・電子部品などの研究開発から、小規模生産用途にも幅広く活用いただけます。
特徴
3種類の炉内ヒーター/断熱材材質によりカーボン炉の応用範囲が広がります。
- C/Cコンポジットヒーター
- SiC3（炭化珪素）コーティングヒーター
- TiC3（チタン・カーバイド）コーティングヒーター
最高使用温度 2000℃
- C/Cコンポジットヒーター
- TiC3コーティングヒーター
- SiC3コーティングヒーター
PLCセミオート運転（真空/パージ → ベント）
- タッチパネルHMIより操作
- *フルオート自動運転も可能（要協議）
炉内加熱範囲
- Φ4inch 〜 Φ8inch
- 枚葉式、又は多段カセット（5枚）バッチ式
豊富なオプション
- 炉内圧力自動調整（APCコントロール）
- 炉内試料温度測定用追加熱電対
- 追加フロントビューポート + 炉内測定用放射温度計
- るつぼ回転
- フルオートコントロール
- 通信機能（温調計機能使用）又はSECS/GEM通信
概略仕様
| C/Cコンポジット素線 | SiC3コーティンググラファイト素線 | TiC3コーティンググラファイト素線 | |
|---|---|---|---|
| 最高使用温度 | Max2000℃ | Max1600℃ | Max2100℃ |
| 断熱材 | グラファイト, アルミナ, タングステン, モリブデン, ジルコニア等（*炉内構造により都度異なります） | ||
| 真空チャンバー | SUS304 水冷ジャケット構造、トップローディング、リニアドライブ駆動開閉式 | ||
| 使用雰囲気 | 真空中、又は不活性ガス（Ar, N2） | 真空中、又は不活性ガス（Ar, N2）、還元性ガス（H2 等） | |
| 有効加熱範囲 | Φ4inch 〜 Φ8inch | ||
| 到達真空度 | 1x10-2 Pascal（* 但し空炉の場合） | ||
| 真空ポンプ | ドライスクロールポンプ（オプション：ターボ分子ポンプ） | ||
| 熱電対 | C タイプ熱電対 | ||
| インターロック | チャンバー表面温度、ヒーター過昇温、冷却水低下、チャンバー開閉、真空度 | ||
| 用力・冷却水 | ヒーター定格 8KVA max（* 加熱範囲寸法により異なります）, 冷却水 Max 8ℓ/min 0.4Mpa | ||
電気炉制御ユニット
プログラム温度調節計、タッチパネルHMI、デジタル真空ゲージ、ヒーターブレーカーSWなどの表示部を前面操作パネルにコンパクトに収納。
●温度調節計：Eurotherm 'nanodaq'、又はRKC PF900
●デジタル真空計：MKS社 マイクロピラニゲージ
●タッチパネル：Siemens SIMATEC HMI（又は三菱）
| タッチパネル | 真空引き ベント チャンバーOpen/Close Gas In/Out |
|---|---|
| ヒーターSW | ヒーター制御回路ON/OFF |
| 真空計 | WRGデジタル真空計 炉内圧力表示 単位切替 電気炉インターロック設定値 |
| 温度調節計 | ヒーター温度制御 |
| プロセスガス流量調整 | Edwards 'Speedivalve' ベローズバルブ手動調整 |
特注仕様・オプション
- 炉内圧力自動調整（APCコントロール）
- 炉内試料温度測定用 追加熱電対
- フロントビューポート + 炉内測定用放射温度計
- るつぼ回転
- 観察用ビューポート
- 通信機能（温調計通信機能を使用）又はSECS/GEM通信
MiniLab-WCF-8" 2 zone heater
MiniLab-WCF-8" SiC coating tray
トップローディングチャンバー
DC電源