MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉

超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃

Φ6inch、Φ8inchウエハーアニール装置

研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機

安全性・操作性を向上 Φ6〜8inchウエハー専用超高温ウエハーアニール炉
新素材・材料開発、半導体・電子部品などの研究開発から、小規模生産用途にも幅広く活用いただけます。

最高使用温度：2000℃
加熱範囲：Φ6inch〜Φ8inchウエハー枚葉式
使用雰囲気：真空中、不活性ガス中

シングルゾーン、又は2ゾーン制御（カスケード制御）
Cタイプ熱電対、又はK熱電対

PLCセミオート運転（自動真空/パージ、ベントサイクル）
7inchタッチパネル操作
インターロック（蓋開閉部、チャンバー温度、冷却水断水）

MFCガス流量PIDループ制御（アップストリームAPC制御）又は
自動開度調整バルブPIDループ制御（ダウンストリームAPC制御）

フロートメーター手動調整又は、
MFC（最大3系統）自動調整

1240(W) x 590(D) x 1160(H)mm
*チャンバー部、制御ボックス部含まず

MiniLab-WCF-8" 2 zone heater

MiniLab-WCF-8" SiC coating tray

トップローディングチャンバー

DC電源

プログラム温度調節計、タッチパネルHMI、デジタル真空ゲージ、ヒーター制御回路トリップSWなどを前面操作パネルにコンパクトに収納。

●温度調節計：PF900（理化工業）
●デジタル真空計：ワイドレンジ真空ゲージ
●タッチパネル：Siemens SIMATEC HMI（又は三菱）

タッチパネル	真空引きベントチャンバーOpen/Close Gas In/Out
ヒーターSW	ヒーター制御回路ON/OFF
真空計	WRGデジタル真空計炉内圧力表示単位切替電気炉インターロック設定値
温度調節計	ヒーター温度制御 2ゾーン（カスケード制御 Master-Slave式）
プロセスガス流量調整	MFC1〜MF3 マスフロー自動流量制御、又はフロートメーター/ベローズバルブ手動調整
APCコントロール	圧力設定値 PID操作
グラフ表示	温度、圧力、流量 CSVデータ出力（Windows PC接続） *PC、USBケーブルは付属しません。
使用雰囲気	真空中、不活性ガス（Ar, N2）還元性ガス（H2, He等）

	C/Cコンポジット素線		SiCコーティング素線	TaCコーティング素線	タングステン素線
最高使用温度	Max2000℃ （*SiCコート1500℃、タングステン素線1600℃）
断熱材	グラファイト、アルミナ、タングステン、モリブデン、ジルコニアなど（*炉内設計により都度異なります）
真空チャンバー	SUS304 水冷ジャケット式
チャンバー開閉	トップローディング、ダンパー付き手動開閉式（又はリニアドライブ駆動開閉式）
使用雰囲気	真空中、又は不活性ガス（Ar, N2）
有効加熱範囲	Φ6inch ～ Φ8inch
到達真空度	10-3 Pa台（* 但し空炉、高真空ポンプ仕様の場合）
真空ポンプ	ロータリーポンプ、又はドライスクロールポンプ（ターボ分子ポンプオプション）
真空計	ワイドレンジ真空計（コンビネーションゲージ）大気圧〜10-9 mbar
熱電対	C タイプ熱電対付属（又は、温度条件によりKタイプを付属）
追加熱電対	過昇温用、るつぼ内雰囲気測定用
インターロック	チャンバー過昇温、ヒーター過昇温、冷却水断水、チャンバー開閉、真空度
用力・冷却水	ヒーター定格 8KVA max（* 加熱範囲寸法により異なります）, 冷却水 8ℓ/min 0.4Mpa
装置寸法	1240(W) x 590(D) x 1160(H)mm