

超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃
様々なプロセス環境に対応
小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
C/Cコンポジットヒーター | Max2000℃ |
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SiC3コーティングヒーター | Max1600℃ |
TiC3コーティングヒーター | Max2100℃ |
C/Cコンポジット・SiC3コーティング・TiC3コーティングヒーター採用
最高温度2000℃
安全性・操作性を向上 ウエハーアニール専用 超高温マルチ雰囲気炉
新素材・材料開発、半導体・電子部品などの研究開発から、小規模生産用途にも幅広く活用いただけます。
特徴
3種類の炉内ヒーター/断熱材材質によりカーボン炉の応用範囲が広がります。
- C/Cコンポジットヒーター
- SiC3(炭化珪素)コーティングヒーター
- TiC3(チタン・カーバイド)コーティングヒーター
最高使用温度 2000℃
- C/Cコンポジットヒーター
- TiC3コーティングヒーター
- SiC3コーティングヒーター
PLCセミオート運転(真空/パージ → ベント)
- タッチパネルHMIより操作
- *フルオート自動運転も可能(要協議)
炉内加熱範囲
- Φ4inch 〜 Φ8inch
- 枚葉式、又は多段カセット(5枚)バッチ式
豊富なオプション
- 炉内圧力自動調整(APCコントロール)
- 炉内試料温度測定用追加熱電対
- 追加フロントビューポート + 炉内測定用放射温度計
- るつぼ回転
- フルオートコントロール
- 通信機能(温調計機能使用)又はSECS/GEM通信
概略仕様
C/Cコンポジット素線 | SiC3コーティンググラファイト素線 | TiC3コーティンググラファイト素線 | |
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最高使用温度 | Max2000℃ | Max1600℃ | Max2100℃ |
断熱材 | グラファイト, アルミナ, タングステン, モリブデン, ジルコニア等(*炉内構造により都度異なります) | ||
真空チャンバー | SUS304 水冷ジャケット構造、トップローディング、リニアドライブ駆動開閉式 | ||
使用雰囲気 | 真空中、又は不活性ガス(Ar, N2) | 真空中、又は不活性ガス(Ar, N2)、還元性ガス(H2 等) | |
有効加熱範囲 | Φ4inch 〜 Φ8inch | ||
到達真空度 | 1x10-2 Pascal(* 但し空炉の場合) | ||
真空ポンプ | ドライスクロールポンプ(オプション:ターボ分子ポンプ) | ||
熱電対 | C タイプ熱電対 | ||
インターロック | チャンバー表面温度、ヒーター過昇温、冷却水低下、チャンバー開閉、真空度 | ||
用力・冷却水 | ヒーター定格 8KVA max(* 加熱範囲寸法により異なります), 冷却水 Max 8ℓ/min 0.4Mpa |
電気炉制御ユニット

プログラム温度調節計、タッチパネルHMI、デジタル真空ゲージ、ヒーターブレーカーSWなどの表示部を前面操作パネルにコンパクトに収納。
●温度調節計:Eurotherm 'nanodaq'、又はRKC PF900
●デジタル真空計:MKS社 マイクロピラニゲージ
●タッチパネル:Siemens SIMATEC HMI(又は三菱)
タッチパネル | 真空引き ベント チャンバーOpen/Close Gas In/Out |
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ヒーターSW | ヒーター制御回路ON/OFF |
真空計 | WRGデジタル真空計 炉内圧力表示 単位切替 電気炉インターロック設定値 |
温度調節計 | ヒーター温度制御 |
プロセスガス流量調整 | Edwards 'Speedivalve' ベローズバルブ手動調整 |
特注仕様・オプション
- 炉内圧力自動調整(APCコントロール)
- 炉内試料温度測定用 追加熱電対
- フロントビューポート + 炉内測定用放射温度計
- るつぼ回転
- 観察用ビューポート
- 通信機能(温調計通信機能を使用)又はSECS/GEM通信
MiniLab-WCF-8" 2 zone heater
MiniLab-WCF-8" SiC coating tray
トップローディングチャンバー
DC電源