MiniLab-WCF

超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃

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ウエハーアニール炉
超高温 真空炉 高温炉 雰囲気炉 カーボン炉

 

超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃

 

様々なプロセス環境に対応
小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置

 

C/Cコンポジットヒーター

Max2000℃

SiC3コーティングヒーター

Max1600℃

TiC3コーティングヒーター

Max2100℃

C/Cコンポジット・SiC3コーティング・TiC3コーティングヒーター採用

 
最高温度2000℃
安全性・操作性を向上 ウエハーアニール専用 超高温マルチ雰囲気炉
新素材・材料開発、半導体・電子部品などの研究開発から、小規模生産用途にも幅広く活用いただけます。

特徴

 

3種類の炉内ヒーター/断熱材材質によりカーボン炉の応用範囲が広がります。

  • C/Cコンポジットヒーター
  • SiC3(炭化珪素)コーティングヒーター
  • TiC3(チタン・カーバイド)コーティングヒーター

 

最高使用温度 2000℃

  • C/Cコンポジットヒーター
  • TiC3コーティングヒーター
  • SiC3コーティングヒーター

 

PLCセミオート運転(真空/パージ → ベント)

  • タッチパネルHMIより操作
  • *フルオート自動運転も可能(要協議)

 

炉内加熱範囲

  • Φ4inch 〜 Φ8inch
  • 枚葉式、又は多段カセット(5枚)バッチ式

 

豊富なオプション

  • 炉内圧力自動調整(APCコントロール)
  • 炉内試料温度測定用追加熱電対
  • 追加フロントビューポート + 炉内測定用放射温度計
  • るつぼ回転
  • フルオートコントロール
  • 通信機能(温調計機能使用)又はSECS/GEM通信

概略仕様


  C/Cコンポジット素線 SiC3コーティンググラファイト素線 TiC3コーティンググラファイト素線
最高使用温度 Max2000℃ Max1600℃ Max2100℃
断熱材 グラファイト, アルミナ, タングステン, モリブデン, ジルコニア等(*炉内構造により都度異なります)
真空チャンバー SUS304 水冷ジャケット構造、トップローディング、リニアドライブ駆動開閉式 
使用雰囲気 真空中、又は不活性ガス(Ar, N2) 真空中、又は不活性ガス(Ar, N2)、還元性ガス(H2 等) 
有効加熱範囲 Φ4inch 〜 Φ8inch
到達真空度 1x10-2 Pascal(* 但し空炉の場合) 
真空ポンプ ドライスクロールポンプ(オプション:ターボ分子ポンプ) 
熱電対 C タイプ熱電対
インターロック チャンバー表面温度、ヒーター過昇温、冷却水低下、チャンバー開閉、真空度
用力・冷却水 ヒーター定格 8KVA max(* 加熱範囲寸法により異なります), 冷却水 Max 8ℓ/min 0.4Mpa 

ウエハーアニール炉

MiniLab-WCF-8" 2 zone heater

ウエハーアニール炉

MiniLab-WCF-8" SiC coating tray

ウエハーアニール炉 ウエハーアニール炉

トップローディングチャンバー

ウエハーアニール炉 ウエハーアニール炉

DC電源

電気炉制御ユニット

 
ウエハーアニール炉

プログラム温度調節計、タッチパネルHMI、デジタル真空ゲージ、ヒーターブレーカーSWなどの表示部を前面操作パネルにコンパクトに収納。
 
●温度調節計:Eurotherm 'nanodaq'、又はRKC PF900
●デジタル真空計:MKS社 マイクロピラニゲージ
●タッチパネル:Siemens SIMATEC HMI(又は三菱)
 

 

タッチパネル

真空引き

ベント

チャンバーOpen/Close

Gas In/Out

ヒーターSW

ヒーター制御回路ON/OFF

真空計

WRGデジタル真空計 炉内圧力表示

単位切替

電気炉インターロック設定値

温度調節計

ヒーター温度制御

プロセスガス流量調整

Edwards 'Speedivalve' ベローズバルブ手動調整

特注仕様・オプション

 

  • 炉内圧力自動調整(APCコントロール)
  • 炉内試料温度測定用 追加熱電対
  • フロントビューポート + 炉内測定用放射温度計
  • るつぼ回転
  • 観察用ビューポート
  • 通信機能(温調計通信機能を使用)又はSECS/GEM通信