セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
Mini-BENCHにPLCオートシーケンスを加え操作性アップ
【Mini-BENCH-prism（ミニベンチ プリズム）】
| 真空・ガス置換炉 | Max2000℃ |
|---|---|
| 還元雰囲気炉 | Max2000℃ |
PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
「真空引き」「ベント」の電気炉操作を自動シーケンス制御（ガス流量→ニードルバルブ手動調整）
冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視。SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。
特徴
- 省スペース： 603(W) x 603(D) x 1,170(H)mm
- PLCセミオート運転：（真空引き/パージ x 3 cycle 〜 ベント）
- インターロック（冷却水・チャンバー表面温度/ヒーター過昇温・真空度・チャンバー開閉）
- 円筒ヒータ（坩堝用）・面状ヒータ（ウエハー焼成用）
- 使用雰囲気：真空・不活性ガス、還元雰囲気
*ご用命の際は下記ご指示下さい。
・ご要望装置構成（上記A, Bいずれか）
・炉内加熱範囲寸法
・試料材質、形状
・焼成温度条件
・炉内雰囲気（真空焼成、ガス種類）
概略仕様
| 真空・ガス置換炉（カーボン炉） | 還元雰囲気炉（メタル炉） | |
|---|---|---|
| 最高使用温度 | Max2000℃ | |
| ヒーター | グラファイト、又はC/C コンポジットヒーター | タングステンヒーター |
| 断熱材 | グラファイトフェルト材 | タングステンシールド、アルミナ絶縁材 |
| 真空チャンバー | SUS304 水冷ジャケット構造、トップローディング、リニアドライブ駆動開閉式（Φ3, 4inchのみ） | |
| 使用雰囲気 | 真空中、又は不活性ガス（Ar, N2） | 真空中、又は不活性ガス（Ar, N2）、還元性ガス（H2 等） |
| 有効加熱範囲 | Φ1”～Φ4”（ウエハー枚葉焼成用面状ヒーター）、又は、〜Φ80 x 深さMax100(H)mm（円筒ヒーター） | |
| 到達真空度 | 1x10-2 Pascal（* 但し空炉の場合） | |
| 真空ポンプ | ロータリーポンプ（オプション：ドライポンプ、高真空ポンプ） | |
| 熱電対 | C タイプ熱電対付属 | |
| インターロック | チャンバー表面温度、ヒーター過昇温、冷却水減少、チャンバー開閉 | |
| 用力・冷却水 | ヒーター定格 6KVA max（* 加熱範囲寸法により異なります）, 冷却水 3ℓ/min 0.4Mpa | |
ヒーター
- 面状ヒーター素線（ウエハー用）：C/C コンポジット（又はタングステン）
- 円筒状ヒーター素線（坩堝用）：C/C コンポジット（又はタングステン）
※ 加熱範囲の寸法により、面状ヒーターと円筒状ヒーターを組み合わせて坩堝内全域での均一加熱が可能です。
電気炉制御ユニット
プログラム温度調節計、タッチパネルHMI、デジタル真空ゲージ、ヒーターブレーカーSWなどの表示部を前面操作パネルにコンパクトに収納。
●温度調節計：RKC PF900, 又はPZ900
●デジタル真空計：単位切替（pascal, Torr, mbar)
●タッチパネル：Siemens SIMATEC HMI（又は三菱）
| タッチパネル | 真空引き ベント チャンバーOpen/Close Gas In/Out |
|---|---|
| ヒーターSW | ヒーター制御回路ON/OFF |
| 真空計 | WRGデジタル真空計 炉内圧力表示 単位切替 電気炉インターロック設定値 |
| 温度調節計 | ヒーター温度制御 |
| 使用雰囲気 | 真空中、不活性ガス（Ar）、還元性ガス（H2, He等） |
オプション・特注仕様
- 高真空ポンプ
- フロントビューポート
- 追加ガス導入ポート
- MFC等のガス制御装置、APC自動圧力制御
- その他、ご要望に応じてカスタム対応致します。当社までご相談下さい。
Mini-BENCH-prism
C/Cコンポジットヒーター
Mini-BENCH-prism
高純度グラファイトるつぼ