セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
Mini-BENCHにPLCオートシーケンスを加え操作性アップ
【Mini-BENCH-prism（ミニベンチ プリズム）】
| 真空・ガス置換炉 | Max2000℃ |
|---|---|
| 還元雰囲気炉 | Max2000℃ |
PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
「真空引き」「ベント」の電気炉操作を自動シーケンス制御
タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。
煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。
冷却水異常・チャンバー温度異常・制御温度過昇温を監視。SUS製 堅牢な水冷ジャケット式チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。
MFC（マスフローコントローラー 最大3系統）によるガス自動流量調整
APC自動圧力コントロール：排気側バルブ自動開度調整によるダウンストリーム、又はMFC（最大3系統）上流側制御によるアップストリーム
グラフ表示：温度、圧力、流量表示、CSVデータ出力
特徴
- 省スペース： 603(W) x 603(D) x 1,170(H)mm
- PLCセミオート運転：（真空引き/パージ x 3 cycle 〜 ベント）
- インターロック（冷却水・チャンバー表面温度/ヒーター過昇温・真空度・チャンバー開閉）
- *円筒ヒータ（坩堝用：固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用）
- *面状ヒータ（ウエハー焼成用：ウエハー、小片チップ等の面状サンプル用）
- MFC最大3系統、ガス自動流量制御（*オプション）
- APC自動圧力コントロール(*オプション）
- 使用雰囲気：真空・不活性ガス、還元雰囲気
*ヒーター形状は、試料形状・材質・焼成条件に合わせた設計が必要です。
都度設計致しますので当社までご相談下さい。
*ご用命の際は下記ご指示下さい。
・ご要望装置構成
・炉内加熱範囲寸法
・試料材質、形状
・焼成温度条件
・炉内雰囲気（真空焼成、ガス置換雰囲気 *ガス種もご指示下さい）
・圧力条件（到達真空度、焼成中圧力）
概略仕様
| 真空・ガス置換炉（カーボン炉） | 還元雰囲気炉（メタル炉） | |
|---|---|---|
| 最高使用温度 | Max2000℃ | |
| ヒーター | グラファイト、C/C コンポジットヒーター、 又はPGコーティングC/Cコンポジットヒーター |
タングステンヒーター |
| 断熱材 | グラファイトフェルト材、又はW/Mo多層シールド | W/Mo多層シールド、アルミナ絶縁材 |
| 真空チャンバー | SUS304 水冷ジャケット構造、トップローディング、リニアドライブ駆動開閉式（又はダンパー付き手動開閉） | |
| 使用雰囲気 | 真空中、又は不活性ガス（Ar, N2） | 真空中、又は不活性ガス（Ar, N2）、還元性ガス（H2 等） |
| 有効加熱範囲 | Φ2”～Φ6”（ウエハー枚葉焼成用面状ヒーター）、又は、〜Φ80 x 深さMax100(H)mm（円筒ヒーター） | |
| 到達真空度 | 1x10-2 Pascal（* 但し空炉の場合） | |
| 真空ポンプ | ロータリーポンプ（オプション：ドライスクロールポンプ、高真空ポンプ） | |
| 真空計 | ワイドレンジ真空計（ピラニ、マグネトロン コンビネーションゲージ）大気圧〜10-9 mbar | |
| 熱電対 | C タイプ熱電対付属（又は、温度条件によりKタイプを付属） | |
| 熱電対追加 | 過昇温用、るつぼ内雰囲気測定用 | |
| インターロック | 冷却水断水、チャンバー過昇温、ヒーター過昇温、チャンバー開閉 | |
| 用力・冷却水 | ヒーター定格 6KVA max（* 加熱範囲寸法により異なります）, 冷却水 2〜8ℓ/min 0.4Mpa | |
| 装置寸法 | 603(W) x 603(D) x 1170(H)mm | |
ヒーター
- 面状ヒーター素線（ウエハー用）：C/C コンポジット、又はタングステン
ウエハー、小片チップ等の面状サンプル用 - 円筒状ヒーター素線（坩堝用）：C/C コンポジット、又はタングステン
固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用
※ 試料材質・形状、坩堝寸法などの諸条件にあわせて、坩堝内全域で効率良く均一加熱ができる様都度カスタム設計致します。
電気炉制御ユニット
プログラム温度調節計、タッチパネルHMI、デジタル真空ゲージ、ヒーター回路トリップSWなどの表示部を前面操作パネルにコンパクトに収納。
●温度調節計：PF900, 又はPZ900（理化工業）
●ワイドレンジ真空計：単位切替（pascal, Torr, mbar)
●タッチパネル：Siemens SIMATEC HMI（又は三菱）
| タッチパネル | 真空引き ベント チャンバーOpen/Close Gas In/Out |
|---|---|
| ヒーターSW | ヒーター制御回路ON/OFF |
| 真空計 | WRGデジタル真空計 単位切替 電気炉インターロック設定値 |
| 温度調節計 | ヒーター温度制御 |
| ガス流量制御 | MFC1〜MFC3流量設定 |
| APCコントロール | 圧力設定値 PID操作 |
| グラフ表示 | 温度、圧力、流量 CSVデータ出力（Windows PC接続） |
| 使用雰囲気 | 真空中、不活性ガス（Ar, N2） 還元性ガス（H2, He等） |
オプション・特注仕様
- 高真空ポンプ
- 増設部品用予備ポート
- 追加ガス導入ポート
- 指定形状るつぼ、サンプルホルダー
- その他、ご要望に応じてカスタム対応致します。当社までご相談下さい。
『面状C/Cコンポジットヒーター』
ウエハー、小片チップ等の面状サンプル用
*円筒状ヒーターも製作致します（*Mini-BENCH参照下さい）。
Mini-BENCH-prism
高純度グラファイトるつぼ