

セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
Mini-BENCHにPLCオートシーケンスを加え操作性アップ
【Mini-BENCH-prism(ミニベンチ プリズム)】
真空・ガス置換炉 | Max2000℃ |
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還元雰囲気炉 | Max2000℃ |
PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
「真空引き」「ベント」の電気炉操作を自動シーケンス制御(ガス流量→ニードルバルブ手動調整)
冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視。SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。
特徴
- 省スペース: 603(W) x 603(D) x 1,170(H)mm
- PLCセミオート運転:(真空引き/パージ x 3 cycle 〜 ベント)
- インターロック(冷却水・チャンバー表面温度/ヒーター過昇温・真空度・チャンバー開閉)
- 円筒ヒータ(坩堝用)・面状ヒータ(ウエハー焼成用)
- 使用雰囲気:真空・不活性ガス、還元雰囲気
*ご用命の際は下記ご指示下さい。
・ご要望装置構成(上記A, Bいずれか)
・炉内加熱範囲寸法
・試料材質、形状
・焼成温度条件
・炉内雰囲気(真空焼成、ガス種類)
概略仕様
真空・ガス置換炉(カーボン炉) | 還元雰囲気炉(メタル炉) | |
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最高使用温度 | Max2000℃ | |
ヒーター | グラファイト、又はC/C コンポジットヒーター | タングステンヒーター |
断熱材 | グラファイトフェルト材 | タングステンシールド、アルミナ絶縁材 |
真空チャンバー | SUS304 水冷ジャケット構造、トップローディング、リニアドライブ駆動開閉式(Φ3, 4inchのみ) | |
使用雰囲気 | 真空中、又は不活性ガス(Ar, N2) | 真空中、又は不活性ガス(Ar, N2)、還元性ガス(H2 等) |
有効加熱範囲 | Φ1”~Φ4”(ウエハー枚葉焼成用面状ヒーター)、又は、〜Φ80 x 深さMax100(H)mm(円筒ヒーター) | |
到達真空度 | 1x10-2 Pascal(* 但し空炉の場合) | |
真空ポンプ | ロータリーポンプ(オプション:ドライポンプ、高真空ポンプ) | |
熱電対 | C タイプ熱電対付属 | |
インターロック | チャンバー表面温度、ヒーター過昇温、冷却水減少、チャンバー開閉 | |
用力・冷却水 | ヒーター定格 6KVA max(* 加熱範囲寸法により異なります), 冷却水 3ℓ/min 0.4Mpa |
ヒーター
- 面状ヒーター素線(ウエハー用):C/C コンポジット(又はタングステン)
- 円筒状ヒーター素線(坩堝用):C/C コンポジット(又はタングステン)
※ 加熱範囲の寸法により、面状ヒーターと円筒状ヒーターを組み合わせて坩堝内全域での均一加熱が可能です。
電気炉制御ユニット

プログラム温度調節計、タッチパネルHMI、デジタル真空ゲージ、ヒーターブレーカーSWなどの表示部を前面操作パネルにコンパクトに収納。
●温度調節計:RKC PF900, 又はPZ900
●デジタル真空計:単位切替(pascal, Torr, mbar)
●タッチパネル:Siemens SIMATEC HMI(又は三菱)
タッチパネル | 真空引き ベント チャンバーOpen/Close Gas In/Out |
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ヒーターSW | ヒーター制御回路ON/OFF |
真空計 | WRGデジタル真空計 炉内圧力表示 単位切替 電気炉インターロック設定値 |
温度調節計 | ヒーター温度制御 |
使用雰囲気 | 真空中、不活性ガス(Ar)、還元性ガス(H2, He等) |
オプション・特注仕様
- 高真空ポンプ
- フロントビューポート
- 追加ガス導入ポート
- MFC等のガス制御装置、APC自動圧力制御
- その他、ご要望に応じてカスタム対応致します。当社までご相談下さい。
Mini-BENCH-prism
C/Cコンポジットヒーター
Mini-BENCH-prism
高純度グラファイトるつぼ