CH 円筒状ヒーター Max1800℃
真空用 円筒状 高温ヒーター
ご要望の仕様にて都度製作致します。
さまざまな用途に応用できる高真空中での円筒状加熱ユニットです。
- グラファイト
- C/Cコンポジット
- SiCコーティング
- PGコーティング
- タングステン
- タンタル
円筒状加熱範囲内に、蒸発材料を入れた坩堝の加熱（MBEセルなど）、金属・セラミック・ワイヤー状サンプルの加熱、など目的に応じてカスタムメイド致します。
概要
ご要望の仕様にて都度製作致します。
さまざまな用途に応用できる高真空中での円筒状加熱ユニットです。
円筒状加熱範囲内に、蒸発材料を入れた坩堝の加熱（MBEセル）、金属・セラミック・ワイヤー状サンプルの加熱、など目的に応じてカスタムメイド致します。
◎ 使用可能環境：真空中, 不活性ガス中 etc..
◎ 発熱体：Graphite, CCC、SiCコーティング、タングステン、タンタル、など。
◎ 製作範囲：ヒーター部（Φ150 x 100mm程度まで）導入フランジ
◉ 温度制御ユニットも製作致します。
用途
- 真空装置プロセスチャンバー内の試料加熱
- 放電プラズマ生成ユニット熱電子銃（Lab6）
- ガス供給系統配管急速加熱（液体急速気化）、等
概略仕様
| 使用環境 | 外径・長さ | 最高使用温度 | 絶縁材 | 熱電対 | 導入フランジ | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| グラファイト | 真空・不活性ガス | 最大Φ150mm 最長100mm |
1800℃ | Shapal AlN BN |
K C |
ICF ISO JIS |
| C/Cコンポジット | 真空・不活性ガス | 1800℃ | ||||
| SiCコーティング | 真空・不活性ガス・O2 | 1500℃ | ||||
| PGコーティング | 真空・不活性ガス | 1800℃ | ||||
| タングステン | 真空・不活性ガス・還元ガス | 1600℃ | ||||
| タンタル | 真空・不活性ガス・還元ガス | 1400℃ |
製作事例
Φ2inch x 70mm 1600℃
Φ70 x 100mm 1500℃
Φ1inch x 100mm 1300℃
Φ50 x 30mm 1000℃
温度制御ユニット
- PIDプログラム温度調節計
- DC電源（又は外付トランス 保護ケース付）
- 電流計・電圧計
- インターロック：冷却水断水、チャンバー過昇温、チャンバー開閉、ヒーター回路トリップSW
- 電源ケーブル2m付属
- 制御温度過昇温警報：異常昇温時にヒーター回路停止（温調計での設定）
- 温度制御ユニットボックス寸法：275(W) x 250(D) x 160(H)mm
※ヒーター定格、制御回路構成によっては寸法が異なります。
