Nanofurnace
ホットウオール式熱CVD装置
コンパクトサイズ ホットウオール式 熱CVD装置
基板サイズ：Φ2.5inch、又はΦ4inch
◉ Model. BWS-NANO-2.5"
◉ Model. BWS-NANO-4"
Nanofurnace Model. BWS-NANO
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- グラフェン, CNT, 2次元物質など
- ZnOナノワイヤ
- SiO2等の絶縁膜など
その他、ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
特徴
- コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能
- ホットウオール式 反応管内を均一に加熱
- 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S.
- キャパシタンスマノメータによる高精度APC圧力制御
- Lab Viewソフトウエア（オプション）によるリモート制御, データ解析
概略仕様
| 石英炉芯管サイズ | Φ2.5inch、又はΦ4inch x L 12" |
| 試料サイズ | 10 x 10mm（2.5inch）、100 x 100mm（4inch） |
| 温度制御 | PIDプログラム温度調節計 |
| 炉内圧力制御 | APC自動圧力制御 |
| 到達圧力 | 5 x 10-3 Torr |
| 真空計 | ピラニーゲージ、キャパシタンスマノメータ |
| 真空ポンプ | ロータリーポンプ |
| マスフローコントローラ | 0-50sccm（CH4） |
| 0-500sccm（Ar） | |
| 0-1000sccm（H2） | |
| 0-50sccm（for bubbler, alchol, or nontoxic liquic precursor） |
BWS-NANO
炉芯管
BWS-NANO
プロセスコントローラー
BWS-NANO
ガス導入系統
BWS-NANO
Lab Viewソフトウエア