Thermocera
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真空薄膜用ヒーター

Substrate Heaters/Evaporator Cell

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PVD（蒸着・スパッタリング）、CVDなどの真空薄膜実験用ヒーター
・均一性、昇温特性、制御性に優れたウエハー加熱 超高温加熱ステージBH, SH, HS
・最高温度1500℃❗️ 有機蒸着・金属蒸着セルとしても利用可能な「HTEヒーター」
当社ヒーターは都度お客様の要望・要求仕様を伺い設計製作するカスタム品です。
研究開発ユーザーの多種多様なご要望にもフレキシブルに対応いたします。

 

  • BHヒーター：CCC、タングステン等多彩なヒーター素線オプション。RF/DCバイアスなど、カスタムメイドにも対応する薄膜実験用ヒーターです。
  • SHヒーター：気密構造の為、内部に材料、堆積物が浸入せず長期間安定した加熱が行えます。CVD実験に推奨致します。
  • HSホットステージ：基板回転ステージ・上下昇降・DC/RFバイアスを備えた真空薄膜プロセス装置用高温加熱ユニット。
  • CH真空用超高温円筒状ヒーターユニット：Max1800℃ 高真空用高温加熱円筒ヒーターユニット。
  • HTEヒーター：最高温度1500℃ 高温るつぼ加熱用ヒーター。又、低温有機蒸着・金属蒸着セルとしても応用可能。

 

※ 使用条件によっては水冷機構付タイプを推奨する場合もございます。

基板加熱ヒーター

BH基板加熱ヒーター

PVD, CVD, ALD 不活性・還元性ガス
Φ2inch〜Φ6inch

 

  • C/Cコンポジット（Max1800℃）
  • SiCコーティング（Max1500℃）
  • PGコーティング（Max1800℃）
  • カンタル（Max900℃）
  • タングステン（Max1600℃）
  • タンタル（Max1400℃）

CVDヒーター

SH基板加熱ヒーター

PVD, CVD, ALD 不活性・還元性ガス

Φ1inch〜Φ6inch

 

  • SH-IN：NiCr素線 Inconelプレート
  • SH-BN：タングステン素線 BNプレート/Moカバー
  • PLDターゲット・カルーセル：
    （ターゲット回転機構）
  • SHヒーター回転機構

高温基板加熱ステージ

HSホットステージ

PVD, CVD, ALD 不活性・還元性ガス

Φ2inch〜Φ6inch

 

  • 基板ステージ部回転
  • ヒーターヘッド回転
  • 上下昇降
  • 基板バイアス（RF,  DC）

    ※ヒーターヘッド部はBHを参照

円筒状ヒーター CH

CH真空用 円筒状ヒーター

放電プラズマ生成 熱電子銃（Lab6）用
真空プロセス用 超高温加熱ユニット
Max1800℃

  • グラファイト（Max1800℃）
  • C/Cコンポジット（Max1800℃）
  • SiCコーティング（Max1500℃）
  • タングステン（Max1600℃）
  • タンタル（Max1400℃）

基板加熱ヒーター

HTE 高真空るつぼ加熱ヒーター・

Max1500℃
真空用高温るつぼ加熱ヒーター
有機・金属蒸着セルとしても応用可能

 

  • 1cc（最大充填量1.5cc）
  • 10cc（最大充填量15cc）
  • るつぼ：アルミナ、石英、PBN、カーボン
  • 水冷機構オプション
  • シャッター（圧空、又はモーター駆動）

カタログダウンロード【PDF 1.7MB】

超高温 真空 ヒーター

基板加熱ヒーター 製作事例

Custom-made Substrate Heater
 
超高温, 超高真空にも対応可能 あらゆるカスタマイズご要望に対応
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