HSホットステージ「基板加熱機構」 Max1800℃
高温ヒーター PVD、CVD 真空薄膜用 基板加熱ステージ
加熱・基板上下昇降・基板回転・RF/DC基板バイアス
装置構成に合わせて自在にカスタマイズが可能, デポアップ・ダウン, 特注基板ホルダー, 基板回転・Zシフト, 傾斜加熱, RF/DC基板バイアスなどの機能が全て収まります。
◉ 加熱ステージ
◉ 回転ステージ
◉ 回転/昇降ステージ
◉ バイアスステージ
ホットステージは、上下機構（ステージ部・ヒーターヘッド部のいずれか、又は両方）、基板回転、RF/DC基板バイアスなど、基板ステージに求められる様々な機能を装備した真空薄膜装置用多機能ステージユニットです。半導体製造装置・各種真空装置（蒸着装置、スパッタ、CVD・分析装置）などのあらゆるご要求に対応致します。
8inch RF300Wバイアスステージ
1inch_1000℃ DC500Vバイアスステージ
用途・使用事例
- 半導体製造装置
- 薄膜実験装置
- PECVD
- プラズマクリーニング
- RF/DC基板バイアスステージ
- 基板搬送用上下ステージ
- 既存装置のステージ部の交換（800℃→1500℃仕様に機能更新）
- プロセス評価機、試作機・実験機、他
ヒーター線
- Ni-Cr
- インコネル
- カンタル
- グラファイト
- C/Cコンポジット
- タングステン
- タンタル
- モリブデン
- PG, SiCコート グラファイト
各部名称
外径寸法
*寸法は参考値です。
温度制御ユニット
- PIDプログラム温度調節計
- DC電源（又は外付トランス 保護ケース付）
- 電流計・電圧計
- インターロック：冷却水断水、チャンバー過昇温、チャンバー開閉、ヒーター回路トリップSW
- 電源ケーブル2m付属
- 制御温度過昇温警報：異常昇温時にヒーター回路停止（温調計での設定）
- 温度制御ユニットボックス寸法：275(W) x 250(D) x 160(H)mm
※ヒーター定格、制御回路構成によっては寸法が異なります。
2inch Hot Stage_800C
Wafer Tray_lift up
Hot Stage_1"
Hot Stage_4"
大気側フィードスルー
RF plasma generation