2inch, 1800℃, CCC-PG coat, dual Z-shift & rotation
HSホットステージ
真空薄膜用 高温基板加熱ステージ Max1800℃
PVD, CVD, ALD 真空薄膜用 高温基板加熱ステージ
加熱・基板上下昇降・基板回転・RF/DC基板バイアス
真空中での薄膜実験・試料解析など様々な真空加熱用途に活用いただけるカスタムメイド製品です。
装置構成に合わせてカスタムステージをご提案いたします。
デポアップ・ダウン, 特注ホルダー, 基板受渡しに合わせた上下機構, 基板バイアス, など装置条件に合わせて設計製作致します。
◉ 加熱 〜1800℃
◉ 回転, 上下移動（手動, モーター駆動）
◉ バイアスステージ（RF, DC）
ホットステージは、上下機構（ステージ部, ヒーターヘッド部）、基板回転、基板バイアス、冷却など、基板ステージに求められる様々な機能を装備することができる真空薄膜装置用多機能ステージユニットです。半導体製造装置・各種真空装置（蒸着装置、スパッタ等PVD, CVD, ALD, 高温試料解析, 高温アニール）などの様々なご要求に対応致します。
製作事例
Wafer Tray_lift up
Hot Stage_1"
Hot Stage_4"
Feedthrough flanges
RF plasma forming
用途・使用事例
- 半導体製造装置
- スパッタ, 蒸着, ALD, PECVD等の真空装置
- プラズマクリーニング
- RF/DCバイアスアシスト
- 既存装置のステージ部交換
- プロセス評価機、試作実験機、他
ヒーター線
- C/Cコンポジット
- グラファイト
- カンタル
- タングステン
- NiCr
- SiCコート グラファイト
各部名称
外径寸法 (*参考値）
温度制御ユニット
19inch rack mount
19inch rack mount (rear)
Mini box type controller
Bench top type controller
2inch, 1100℃, CCC, Z-shift, DC400W bias
3inch, 1600℃, SiC coating, Z-shift, RF1KW bias
2inch, 1000℃, RF 300W bias
8inch, Z-shift, rotation & RF800W bias (*bias only)