Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉

超高温小型卓上実験炉 Max2000℃

様々な研究開発用途に最適な、超小型卓上サイズ超高温実験炉
【Mini-BENCH（ミニベンチ）】series

真空・ガス置換炉	Max2000℃
還元雰囲気炉	Max2000℃

カーボン炉（真空不活性ガス）・メタル炉（真空・不活性ガス・還元雰囲気）を、最小構成（ヒータ/チャンバー+温度制御ユニット）から、ご予算・目的に応じて最適なシステムをご提案致します。

内径Φ80mmルツボ内試料,Φ1～6inchウエハー焼成コンパクトサイズ・簡単操作 2000℃まで急速昇温！
SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、その他先端基礎研究、製品開発部門などで幅広く活用いただけます。

特徴

省スペース、研究室の限られたスペースにも設置いただくことができます。
*昇温時間最速約15分（1500℃）、降温1500℃→100℃まで約40分（真空、およびガス置換雰囲気）
ご要望の焼成条件、ご予算にに合わせた装置構成でご提案致します。

*Mini-BENCH-Φ2inch（Φ52mm）の場合

【装置構成】

(A) チャンバー + 温度制御ユニット
(B) チャンバー + 温度制御ユニット + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類）

*本製品はカスタムメイド製品です。ご要望の使用条件に合わせて設計しております、ご用命の際は下記ご指示下さい。

・ご要望装置構成（上記A、Bいずれか）
・炉内加熱範囲寸法
・試料材質、形状
・焼成温度条件
・炉内雰囲気（真空焼成、ガス置換雰囲気 *ガス種もご指示下さい）
・圧力条件（到達真空度、焼成中圧力）

*オプション：高真空ポンプ、増設部品用予備ポート、追加ガス導入ポート、指定形状るつぼ、サンプルホルダーなど。ご要望に応じて設計製作致します。

Mini-BENCH-Φ1inchチャンバー

Mini-BENCH-Φ3inchチャンバー

装置主仕様（制御ユニット・真空系付属の場合）

	真空・ガス置換炉（カーボン炉）	還元雰囲気炉（メタル炉）
最高使用温度	Max2000℃
ヒーター	グラファイト、C/C コンポジットヒーター、又はPGコーティングC/Cコンポジットヒーター	タングステンヒーター
断熱材	グラファイトフェルト材、又はW/Mo多層シールド	W/Mo多層シールド、アルミナ絶縁材
真空チャンバー	SUS304 水冷ジャケット構造、トップローディング、手動開閉（ダンパーオプション有り）又はリニアドライブ開閉式
使用雰囲気	真空中、又は不活性ガス（Ar, N2）	真空中、又は不活性ガス（Ar, N2）、還元性ガス（H2 等）
有効加熱範囲	Φ1”～Φ6”（ウエハー枚葉焼成用面状ヒーター）、又は、〜Φ80 x 深さMax100(H)mm（円筒ヒーター）
到達真空度	1x10-2 Pascal（* 但し空炉の場合）
真空ポンプ	ロータリーポンプ（オプション：ドライポンプ、高真空ポンプ）
真空計	ワイドレンジ真空計（ピラニ、マグネトロンコンビネーションゲージ）大気圧〜10-9 mbar
熱電対	C タイプ熱電対付属
インターロック	チャンバー表面温度、ヒーター過昇温、（オプション：冷却水）
用力・冷却水	ヒーター定格 6KVA max（* 加熱範囲寸法により異なります）, 冷却水 3ℓ/min 0.4Mpa