

超高温小型卓上実験炉 Max2000℃
様々な研究開発用途に最適な、超小型卓上サイズ超高温実験炉
【Mini-BENCH(ミニベンチ)】series
真空・ガス置換炉 | Max2000℃ |
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還元雰囲気炉 | Max2000℃ |
カーボン炉(真空 不活性ガス)・メタル炉(真空・不活性ガス・還元雰囲気)を、最小構成(ヒータ/チャンバー+コントロールボックス)から、ご予算・目的に応じて最適なシステムをご提案致します。
内径Φ80mmルツボ内試料,Φ1~4inchウエハー焼成コンパクトサイズ・簡単操作 2000℃まで急速昇温!
SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、その他先端基礎研究、製品開発部門などで幅広く活用いただけます。
特徴
- 小型 卓上サイズ、研究室の限られたスペースにも設置いただくことができます。
- ご要望の焼成条件に合わせてカスタム設計対応致します。
- ご予算に合わせた装置構成でご提案致します。
【装置構成】
(A) チャンバー + コントロールボックス
(B) チャンバー + コントロールボックス + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類)
*ご用命の際は下記ご指示下さい。
・ご要望装置構成(上記A, Bいずれか)
・炉内加熱範囲寸法
・試料材質、形状
・焼成温度条件
・炉内雰囲気(真空焼成、ガス種類)
概略仕様
真空・ガス置換炉(カーボン炉) | 還元雰囲気炉(メタル炉) | |
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最高使用温度 | Max2000℃ | |
ヒーター | グラファイト、又はC/C コンポジットヒーター | タングステンヒーター |
断熱材 | グラファイトフェルト材 | タングステンシールド、アルミナ絶縁材 |
真空チャンバー | SUS304 水冷ジャケット構造、トップローディング、リニアドライブ駆動開閉式(*Φ3, 4inchのみ) | |
使用雰囲気 | 真空中、又は不活性ガス(Ar, N2) | 真空中、又は不活性ガス(Ar, N2)、還元性ガス(H2 等) |
有効加熱範囲 | Φ1”~Φ4”(ウエハー枚葉焼成用面状ヒーター)、又は、〜Φ80 x 深さMax100(H)mm(円筒ヒーター) | |
到達真空度 | 1x10-2 Pascal(* 但し空炉の場合) | |
真空ポンプ | ロータリーポンプ(オプション:ドライポンプ、高真空ポンプ) | |
熱電対 | C タイプ熱電対付属 | |
インターロック | チャンバー表面温度、ヒーター過昇温、(オプション:冷却水) | |
用力・冷却水 | ヒーター定格 6KVA max(* 加熱範囲寸法により異なります), 冷却水 3ℓ/min 0.4Mpa |
ヒーター
- 面状ヒーター素線(ウエハー用):C/C コンポジット(又はタングステン)
- 円筒状ヒーター素線(坩堝用):C/C コンポジット(又はタングステン)
※ 加熱範囲の寸法により、面状ヒーターと円筒状ヒーターを組み合わせて坩堝内全域での均一加熱が可能です。

Mini-BENCH
フラットヒーター素線

Mini-BENCH
円筒ヒーター素線
Mini-BENCH コントロールボックス
プログラム温度調節計、DC 電源(又は外付トランス)、操作端、電流電圧計、チャンバー開閉スイッチ*をコンパクトなボックスに収納。Mini-BENCH の基本操作に必要な全てが収納されています。
*Φ3、4inchサイズチャンバーのみ。
Mini-BENCH-Φ1inchチャンバー
Mini-BENCH-Φ3inchチャンバー