真空炉高温炉雰囲気炉 Mini-BENCH

超高温小型卓上実験炉 Max2000℃

様々な研究開発用途に最適な、超小型卓上サイズ超高温実験炉
【Mini-BENCH（ミニベンチ）】series

真空・ガス置換炉	Max2000℃
還元雰囲気炉	Max2000℃

カーボン炉（真空不活性ガス）・メタル炉（真空・不活性ガス・還元雰囲気）を、最小構成（ヒータ/チャンバー+コントロールボックス）から、ご予算・目的に応じて最適なシステムをご提案致します。

内径Φ80mmルツボ内試料,Φ1～4inchウエハー焼成コンパクトサイズ・簡単操作 2000℃まで急速昇温！
SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、その他先端基礎研究、製品開発部門などで幅広く活用いただけます。

特徴

小型卓上サイズ、研究室の限られたスペースにも設置いただくことができます。
ご要望の焼成条件に合わせてカスタム設計対応致します。
ご予算に合わせた装置構成でご提案致します。

【装置構成】

(A) チャンバー + コントロールボックス
(B) チャンバー + コントロールボックス + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類）

*ご用命の際は下記ご指示下さい。

・ご要望装置構成（上記A, Bいずれか）
・炉内加熱範囲寸法
・試料材質、形状
・焼成温度条件
・炉内雰囲気（真空焼成、ガス種類）

Mini-BENCH-Φ1inchチャンバー

Mini-BENCH-Φ3inchチャンバー

概略仕様

	真空・ガス置換炉（カーボン炉）	還元雰囲気炉（メタル炉）
最高使用温度	Max2000℃
ヒーター	グラファイト、又はC/C コンポジットヒーター	タングステンヒーター
断熱材	グラファイトフェルト材	タングステンシールド、アルミナ絶縁材
真空チャンバー	SUS304 水冷ジャケット構造、トップローディング、リニアドライブ駆動開閉式（*Φ3, 4inchのみ）
使用雰囲気	真空中、又は不活性ガス（Ar, N2）	真空中、又は不活性ガス（Ar, N2）、還元性ガス（H2 等）
有効加熱範囲	Φ1”～Φ4”（ウエハー枚葉焼成用面状ヒーター）、又は、〜Φ80 x 深さMax100(H)mm（円筒ヒーター）
到達真空度	1x10-2 Pascal（* 但し空炉の場合）
真空ポンプ	ロータリーポンプ（オプション：ドライポンプ、高真空ポンプ）
熱電対	C タイプ熱電対付属
インターロック	チャンバー表面温度、ヒーター過昇温、（オプション：冷却水）
用力・冷却水	ヒーター定格 6KVA max（* 加熱範囲寸法により異なります）, 冷却水 3ℓ/min 0.4Mpa