ANNEAL

ウエハーアニール装置 Max1000℃

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ウエハーアニール炉
ウエハーアニール炉

 

ウエハーアニール装置 Max1000℃

 

Φ4inch〜Φ6inch基板
高精度APC自動圧力制御
不活性ガス・反応性ガス導入(MFC x 最大3系統)
高均一性 高速昇温 高真空(<5 × 10-7 mbar)ウエハーアニール専用機

 

ハロゲンランプヒーター

Max600℃

C/Cコンポジットヒーター

Max1000℃

SiCコーティングヒーター

Max1000℃

ハロゲンランプ・C/Cコンポジット・SiCコーティングヒーター採用

 
ANNEALウエハーアニール装置は、4inchから6inchまでの基板をプロセス雰囲気に合わせて選択可能な3種類のヒーターを設置した加熱ステージ上で均一に、クリーンな環境で加熱処理ができるウエハーアニール専用機です。高精度キャパシタンスマノメータによるMFCのPIDループコントロールでプロセス中の圧力を高精度で一定圧力しながら焼成することができます。

特徴

 

3種類のヒーター材質

  • ハロゲンランプヒーター(Max600℃)
  • C/Cコンポジットヒーター(Max1000℃)
  • SiCコーティングヒーター(Max1000℃)

 

高精度圧力制御(APCコントロール)

  • 高精度 0.1Torr F.S.キャパシタンスマノメータ
  • MFC x 最大3系統
  • 高精度ワイドレンジゲージ 10-9〜1000mbar

 

PLC自動運転

  • 7"タッチパネルHMIより操作
  • タッチパネルで全ての操作を一元管理
  • Windows PC用リモート管理ソフト IntelliLink付属

 

到達圧力

  • <5 × 10-7 mbar

 

豊富なオプション

  • 大気圧制御パッケージ(*真空アニール標準)
  • ドライスクロールポンプ
  • 基板ホルダー
  • 面内温度測定用 追加熱電対
  • H2ガス希釈モジュール

概略仕様


  ハロゲンランプヒーター C/Cコンポジットヒーター SiCコーティングヒーター
最高使用温度 Max600℃ Max1000℃ Max1000℃
真空チャンバー SUS304 水冷ジャケット構造(*1000℃)、トップローディング
基板サイズ Φ4inch、又はΦ6inch
真空ポンプ ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ(ドライポンプオプション)
真空計 ワイドレンジゲージ, キャパシタンスマノメーター
到達真空度 <5 × 10-7 mbar
熱電対 C タイプ熱電対
HMI 7inchタッチパネル (*付属ソフトウエアIntelliLinkによりWindows PCへ接続 操作)
寸法 750(W) x 500(D) x 400(H)mm
重量 約40kg

ウエハーアニール炉

ANNEAL チャンバー内部

ウエハーアニール炉 ウエハーアニール炉

ANNEAL
ハロゲンランプステージ

ウエハーアニール炉 ウエハーアニール炉

ANNEAL
ハロゲンランプヒーター

ウエハーアニール炉

ANNEAL
C/Cコンポジットステージ

7"タッチパネル HMI

 
ウエハーアニール炉

バルブ開閉・ゲージ操作・ポンプ起動など、操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル画面で行うことができます。
 
●ANNEAL制御主ソフトウエア IntelliDep
●付属Windows PCリモート監視ソフト IntelliLink
●タッチパネル:OMRON
 

 

PUMP

WRG設定値、プロセス圧力モニター

RP, TMP自動運転

VENT

ベント開始、ドアインターロック

PROCESS

ヒーター運転条件の設定

ガス導入条件設定

PROGRAM

手動運転モード

レシピ作成登録→自動運転モード

Log保存、故障解析

CSV出力、グラフ表示

特注仕様・オプション

 

  • 大気圧制御パッケージ(*真空アニール標準)
  • ドライスクロールポンプ
  • 基板ホルダー
  • 面内温度測定用 追加熱電対
  • H2ガス希釈モジュール