ANNEALウエハーアニール装置

ウエハーアニール装置 Max1000℃

Φ4inch〜Φ6inch基板
高精度APC自動圧力制御
不活性ガス・反応性ガス導入（MFC x 最大3系統）
高均一性高速昇温高真空（<5 × 10^-7mbar）ウエハーアニール専用機

ハロゲンランプヒーター Max600℃
C/Cコンポジットヒーター Max1000℃
SiCコーティングヒーター Max1000℃
水素ガス希釈モジュール（オプション）

アニール条件に応じて3種類のヒーターを用意 APC制御プロセス圧力環境で安定した温度制御

ANNEALウエハーアニール装置は、4inchから6inchまでの基板をプロセス雰囲気に合わせて選択可能な3種類のヒーターを設置した加熱ステージ上で均一に、クリーンな環境で加熱処理ができるウエハーアニール専用機です。高精度キャパシタンスマノメータによるMFCのPIDループコントロールでプロセス中の圧力を高精度で一定圧力しながら焼成することができます（APC 自動プロセス圧力コントロール）。

ANNEAL front view

ANNEAL chamber interior

ANNEAL チャンバー内部

ANNEAL
ハロゲンランプステージ

ANNEAL
ハロゲンランプヒーター

ANNEAL
C/Cコンポジットステージ

3種類のヒーターバリエーション

ハロゲンランプヒーター（Max600℃）
C/Cコンポジットヒーター（Max1000℃）*4inch
SiCコーティングヒーター（Max1000℃）*4inch

高精度プロセス圧力制御（APC）

MFC x 最大3系統（Ar, O₂, N₂）
キャパシタンスマノメータ 0.1Torr F.S.
ワイドレンジゲージ 10^-9〜1000mbar

PLCオートシーケンス

7inchタッチパネル操作操作が分散せず、全ての操作が一元管理
簡単操作作業者レベルを問わずどなたでも安全にご使用いただけます。

高真空仕様

SUS304チャンバー（水冷オプション）
到達圧力<5 × 10^-7 mbar
ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ（ドライポンプオプション）

コンパクトサイズ

装置本体寸法：804(W）x 504(D) x 475(H)mm
（*ロータリーポンプ、チラー除く）
設置場所を選ない省スペース・コンパクトサイズ

PC用ソフトウエア付属

IntelliNet（インテリネット）付属 USBケーブルでPCに接続

システムライブモニター
オフラインレシピ作成、アップロード/ダウンロード
Plot画面で圧力・温度グラフ表示
CSVデータ出力

豊富なオプション

大気圧制御モジュール（APO）
ドライスクロールポンプ
基板ホルダー
特注サセプター（標準SUS304）
モニター用追加熱電対
水素ガス希釈モジュール

主仕様

	ハロゲンランプヒーター	C/Cコンポジットヒーター	SiCコーティングヒーター
最高使用温度	Max600℃	Max1000℃	Max1000℃
チャンバー	SUS304 水冷ジャケット構造（*1000℃）, トップローディグ
基板サイズ	Φ4inch, 又はΦ6inch	Φ4inch
昇温特性	0.3℃/s	8℃/s
温度制御精度	±1℃
APC圧力制御精度	0.1mbar
真空ポンプ	ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ（ドライポンプオプション）
真空計	ワイドレンジゲージ, キャパシタンスマノメーター
到達真空度	<5 × 10-7 mbar
熱電対	Kタイプ熱電対
HMI	7inchタッチパネル主制御ソフト IntelliDep *付属ソフトIntelliLink：USBケーブルでWindows PCへ接続ライブモニター、オフラインレシピ作成、ログ
寸法	804(W) x 504(D) x 475(H)mm
重量	約45 - 70kg（*構成部品による）

7"タッチパネル HMI

バルブ開閉・ゲージ操作・ポンプ起動など、操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル画面で行うことができます。

●ANNEAL制御主ソフトウエア IntelliDep
●付属Windows PCリモート監視ソフト IntelliLink
●タッチパネル：OMRON

PUMP	WRG設定値、プロセス圧力モニター RP, TMP自動運転
VENT	ベント開始、ドアインターロック
PROCESS	ヒーター運転条件の設定ガス導入条件設定
PROGRAM	手動運転モードレシピ作成登録→自動運転モード
Log保存、故障解析	CSV出力、グラフ表示