HSホットステージ「基板加熱機構」 Max1600℃
加熱・基板上下昇降・基板回転・RF/DC基板バイアス
装置構成に合わせて自在にカスタマイズが可能, Depo-Up or Down, 特注基板ホルダー, 基板回転・上下昇降, 傾斜加熱, RF/DC基板バイアスなど多彩な機能がこの一台に全て収まります。
・基板加熱ホットステージ
・回転/昇降ステージ
・バイアスステージ
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ホットステージは、上下昇降機構（基板ステージ部・ヒーターヘッド部のいずれか、又は両方）、基板回転、RF/DC基板バイアスなど、基板加熱ステージに求められる様々な機能を装備した「All-in-One」コンポーネントです。半導体製造装置・各種真空装置（蒸着装置、スパッタ、CVD装置）などのあらゆるご要求に対応致します。
用途・採用事例
- 半導体製造・薄膜実験装置・RF/DC逆スパッタ, PECVD, RIE等
- 既設装置の加熱機構部をホットステージに交換（800℃仕様→Max1600℃へ改造）
- 新規プロセス評価機、試作機など
発熱体
- NiCrヒーター
- Inconelヒーター
- Kanthalヒーター
- グラファイトヒーター
- C/Cコンポジットヒーター
- タングステンヒーター
- モリブデンヒーター
- SiC3コート グラファイトヒーター
- TiC3コート グラファイトヒーター
- PGコート グラファイトヒーター
- PG/PBNヒーター
※ 使用温度、データは「VHヒーター」を参照下さい。
各部名称
外径寸法
2inch Hot Stage_800C
Wafer Tray_lift up
Hot Stage_1"
Hot Stage_4"
大気側フィードスルー
4inch 1200C Hot Stage
RF plasma generation