MiniLab thin film deposition system

Fast Pumping 素早い排気 

約15〜20分で1x10-3Pascalまで到達

MiniLabシリーズチャンバーは短時間で所定の圧力まで到達することができます。添付排気曲線は、MiniLab-090チャンバー（90ℓ容積）の参考事例です。
粗挽きポンプ：RV8（Edwards社 8㎥/h）
ターボ分子ポンプ：nEXT400（Edwards社 400ℓ/min）
 
ML-010排気曲線【 PDF 137KB 】

均一な成膜・正確な膜厚制御

"Confocal Sputtering" technology

MiniLabシリーズでは、全てのモデルに'Confocal sputtering'技術を採用しております。スパッタリングの場合、基板サイズの1/2のターゲットカソードサイズで十分な膜均一性を得ることができます。添付は参考事例としてSiO2絶縁膜、Ti金属膜の均一性データを掲載しております。
いずれもΦ6inch基板、Φ3inchターゲットを採用した事例です。
 
均一性参考データ【 PDF 137KB 】

6種類のチャンバーバリエーション

●目的・用途に応じて6種類のチャンバーを用意
●豊富なポート数：コンポーネントをフレキシブルに配置
●冷却・ベーキングチャンバーも制作致します。

 

• MiniLab-026：26ℓ クラムシェル開閉式 SUS304
• MiniLab-060：60ℓ 400 x 400 x 400mm SUS304
• MiniLab-070：60ℓ 450 x 450 x 450mm SUS304
• MiniLab-080：80ℓ 400 x 400 x 570mm Tallチャンバー
• MiniLab-090：80ℓ 400 x 400 x 570mm グローブBox用
• MiniLab-125：125ℓ 500 x 500 x 600mm SUS304

 
*UHV仕様等、上記のほかに特注チャンバー製作致します。