
SHヒーター Max1100℃
高真空, 不活性・活性ガス中での薄膜実験に最適
コストパフォーマンスに優れた高温ヒータ
- NiCrヒーター素線 Inconelプレート(Max850℃)
- Tungstenヒーター素線 BNプレート/Moカバー(Max1100℃)
「SHシリーズ」Incone/BNプレート基板加熱ヒーターは、プロセスガス・体積物の侵入を防ぐ気密構造ヒーターブロックを採用、CVDなどの薄膜実験に最適です。最高使用温度Max850℃(SH-IN)Max1100℃(SH-BN)、加熱有効エリアφ1.0〜6.1inch。標準で基板固定クリップ(シールドケース表面に固定)、Kタイプシース熱電対を付属、オプションで真空導入フランジ(ICF, VG, NW等)、基板回転機構、ベースフランジ付、基板バイアス仕様なども製作可能です。
動画
(2inch, 4inch基板加熱ヒーター 回転機構付)
Blue Wave Semiconductors 2 2 inch Substrate rotation with Flange
Building a tiny steampunk "HDMI" display
用途
- 薄膜形成(CVD, スパッタリング, PLD, 真空蒸着他)
- 薄膜応力解析
- ダイヤモンド薄膜
- アニール装置
- その他
使用発熱体
- NiCr発熱体
- タングステン発熱体
トッププレート材質
- Inconel600プレート(SH-IN)
- BNプレート, モリブデンカバー(SH-BN)
主仕様
SH-IN | SH-BN | |
---|---|---|
発熱体 | Ni-Cr | タングステン |
トッププレート | Inconel 600 | BNプレート/Moカバー |
ヒートシールド | SUS304(標準) | SUS304(標準) |
最大加熱温度(プレート) | 850℃ | 1100℃ |
使用雰囲気 | 真空中(10-8 Torr〜1000 Torr) 活性ガス、反応性ガス |
真空中(10-8 〜10-7 Torr) 不活性ガス、還元性ガス |
ヒーター容量 | Max 60V, 10A | |
付属部品 | Kタイプシース熱電対(ミニコネクタ or ICFフランジ)✕ 1本 | |
オプション | サンプル固定用クランプ・ネジ、真空フランジ、基板回転、上下昇降、バイアス印加 |
ターゲット・カルーセル(自動ターゲット回転機構)
PLD(Pulsed Laser Deposition)1inch, 2inchターゲット x 3個


概要
PLD装置用 エキシマレーザのターゲットへの照射を均一にすることができます。
- ターゲットサイズ:1inch, 2inch
- ターゲット数:最大3個まで
- 接続フランジ:8inch(ICF203)
- 自公転可能(切替用公転、ターゲット回転用自転)
- 19inchラック式専用コントローラ付き
SH-IN 基板クリップ
SH-IN 端子横取出し
SH-IN 回転機構