nanoPVD-T15A

有機膜・金属膜蒸着装置

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nanoPVD-T15A 有機膜・金属膜蒸着装置

 

コンパクト・ハイパフォーマンス
高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

 
◉ Φ2inch・Φ4inch基板
◉ コンパクトサイズ:804(W) x 560(D) x 600(H)mm

高性能「有機膜・金属膜蒸着」装置です。温度応答性、安定性、再現性に優れたMoorfield社独自の有機蒸着源「LTE1」、金属材料蒸着源「TE1-Boxシールド型」を採用。OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用、金属材料蒸着に最適。金属蒸着源x2、有機蒸着源x最大4まで搭載可能、自動連続多層成膜・同時成膜も可能な多機能装置。研究開発の現場での様々なご要求に対応致します。

真空蒸着装置

優れた基本性能

 

  • 到達真空度 5x10-5 Pascal
  • SUS304高真空チャンバー
  • 素早い真空到達(1x10-3Paまで約10分)
  • T/S調整距離:300mm 均一な蒸着膜

高機能システム

 

  • 7"タッチパネル画面で全ての操作・成膜制御・データ管理を一元管理
  • 自動連続多層膜
  • 同時成膜(*LTE有機ソース)
  • APCコントロール(PID自動圧力制御)
  • PLC自動シーケンス(真空引き・ベント)運転

豊富なオプション

 

  • 基板回転・上下昇降
  • 基板加熱ヒーター 500℃
  • 基板シャッター、ソースシャッター
  • ファストベント(最短6分)
真空蒸着装置

高精度温度制御 LTE1有機蒸着源(最大4源)

  • 制御温度Max600℃
  • PIDループ制御 ±0.1Å
  • 1cc、又は5ccるつぼ
真空蒸着装置

T15Aチャンバーベースポート

  • 追加部品用の多数の予備ポートを配置
  • 金属蒸着源x2、有機蒸着源x4
  • シャッター(基板、ソース)
  • 水晶振動子膜厚センサ x 2
真空蒸着装置

制御ソフトウエア『Intellidep』

  • 直感的操作
  • 全ての設定を7"タッチパネルで一元管理
  • USBでWindows PC接続、CSV・ログデータ出力
  • 最大1000Layer, 1000process, 50レシピ作成登録

主仕様


基板サイズ Φ2inch、又はΦ4inch
抵抗加熱金属蒸着源 TE1 ボックスシールド付 x 1源, タングステンフィラメント(標準)付属
有機蒸着源 LTE1 1ccるつぼ、又は5ccるつぼ
有機蒸着源るつぼ 石英製(標準)又は、アルミナ(オプション)
チャンバー SUS304 内容積15ℓ フロントビューポート付
到達圧力 5 x 10-5pascal
真空ポンプ ターボ分子ポンプ(EXT75D)、ロータリーポンプ(RV3)
基板回転・昇降 30段階回転速度切替(HMIより設定、自動回転)、手動昇降式
基板加熱 Max500℃ ハロゲンランプヒーター
水晶振動子膜厚モニター 1〜2
シャッター ソースシャッター x 2、基板シャッター
電源 200V 三相 10A 50/60Hz
冷却水 1ℓ/min 18〜20℃ 20kpa
圧縮空気 415〜4550kpa
ベントガス N2 35kpa
'IntelliLink' Windows PC用リモートソフト 付属USBケーブルで装置に接続
・システムライブモニタリング(運転状態モニター)
・エラー解析
・レシピ作成・保存・アップロード
・データロギング・CSVフォーマット出力