nanoPVD-T15A 有機膜・金属膜蒸着装置
コンパクト・ハイパフォーマンス
高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
◉ Φ2inch・Φ4inch基板
◉ コンパクトサイズ:804(W) x 560(D) x 600(H)mm
高性能「有機膜・金属膜蒸着」装置です。温度応答性、安定性、再現性に優れたMoorfield社独自の有機蒸着源「LTE1」、金属材料蒸着源「TE1-Boxシールド型」を採用。OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用、金属材料蒸着に最適。金属蒸着源x2、有機蒸着源x最大4まで搭載可能、自動連続多層成膜・同時成膜も可能な多機能装置。研究開発の現場での様々なご要求に対応致します。

優れた基本性能
- 到達真空度 5x10-5 Pascal
- SUS304高真空チャンバー
- 素早い真空到達(1x10-3Paまで約10分)
- T/S調整距離:300mm 均一な蒸着膜
高機能システム
- 7"タッチパネル画面で全ての操作・成膜制御・データ管理を一元管理
- 自動連続多層膜
- 同時成膜(*LTE有機ソース)
- APCコントロール(PID自動圧力制御)
- PLC自動シーケンス(真空引き・ベント)運転
豊富なオプション
- 基板回転・上下昇降
- 基板加熱ヒーター 500℃
- 基板シャッター、ソースシャッター
- ファストベント(最短6分)

高精度温度制御 LTE1有機蒸着源(最大4源)
- 制御温度Max600℃
- PIDループ制御 ±0.1Å
- 1cc、又は5ccるつぼ

T15Aチャンバーベースポート
- 追加部品用の多数の予備ポートを配置
- 金属蒸着源x2、有機蒸着源x4
- シャッター(基板、ソース)
- 水晶振動子膜厚センサ x 2

制御ソフトウエア『Intellidep』
- 直感的操作
- 全ての設定を7"タッチパネルで一元管理
- USBでWindows PC接続、CSV・ログデータ出力
- 最大1000Layer, 1000process, 50レシピ作成登録
主仕様
基板サイズ | Φ2inch、又はΦ4inch |
抵抗加熱金属蒸着源 TE1 | ボックスシールド付 x 1源, タングステンフィラメント(標準)付属 |
有機蒸着源 LTE1 | 1ccるつぼ、又は5ccるつぼ |
有機蒸着源るつぼ | 石英製(標準)又は、アルミナ(オプション) |
チャンバー | SUS304 内容積15ℓ フロントビューポート付 |
到達圧力 | 5 x 10-5pascal |
真空ポンプ | ターボ分子ポンプ(EXT75D)、ロータリーポンプ(RV3) |
基板回転・昇降 | 30段階回転速度切替(HMIより設定、自動回転)、手動昇降式 |
基板加熱 | Max500℃ ハロゲンランプヒーター |
水晶振動子膜厚モニター | 1〜2 |
シャッター | ソースシャッター x 2、基板シャッター |
電源 | 200V 三相 10A 50/60Hz |
冷却水 | 1ℓ/min 18〜20℃ 20kpa |
圧縮空気 | 415〜4550kpa |
ベントガス | N2 35kpa |
'IntelliLink' Windows PC用リモートソフト | 付属USBケーブルで装置に接続 ・システムライブモニタリング(運転状態モニター) ・エラー解析 ・レシピ作成・保存・アップロード ・データロギング・CSVフォーマット出力 |