

Model. ETCH5A
ソフトエッチング装置
- グラフェン・TMDC等の2Dアプリケーション
- PPA・PPMA等のレジスト除去
- テフロン基板などへのダメージレスエッチング
Soft-Etching technology
<30W低出力RFエッチングによる繊細なエッチングコントロール
低出力制御領域を、制御精度10mWで安定したプラズマコントロールが可能
ソフトエッチングは、2010 年に「炭素新素材グラフェンに関する革新的実験」でノーベル物理学賞を受賞したマンチェスター大学のA. ガイム博士率いるグラフェン研究チームとの共同開発技術です。
Moorfield 社のグラフェン合成装置・エッチングステージを採用以来すでに3 台以上の装置が同研究機関で継続稼働しており、研究グループの開発にはnanoETCH、nanoCVDがなくてはならないツールとなっています。又、nanoCVD、nanoETCH はNGI(National Graphene Institute)、GEIC(Grapnene Engineering Innovation Center Manchester)、他欧州各国の国立研究機関にも多数納入されており、2D 研究で幅広く活用されている信頼性の高い装置です。
用途
- 2D(遷移金属カルゴネナイド, 材料転写後のグラフェン剥離)表面改質
- PMMA, PPA等のポリマーレジスト除去
- テフロン基板などのダメージを受けやすい基板の表面改質、エッチング
- h-BNサイドウオールエッチング*
- SiO2エッチング*
- *『フッ化ガス供給モジュール』オプション要
参考仕様
A. 主仕様
1. ウエハーサイズ | Φ3inch(標準)、又はΦ4inch、最大Φ6inch |
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2. プロセスガス | 最大3系統MFC制御(Ar, O2標準 N2オプション) |
3. 真空排気系 | ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ、ワイドレンジゲージ |
4. 到達真空度 | 5 x 10-5 pascal |
5. オプション | APCプロセス圧力自動制御 DC電源ユニット フッ化ガス供給モジュール(SF6, CHF3) ドライスクロールポンプ |
B. ユーティリティ
1. 電源 | 200V 単相 20A |
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2. プロセスガス | 25psi (0.17Mpa)99.99%推奨 |
3. ベントガス | 5-6psi (34-41kpa) |
4. 冷却水 | 1L/min, 4bar(400kpa), 18-20℃ |
5. 圧縮空気 | 60-80psi(413-550Kpa) |
C. ソフトウエア(標準付属)
1. IntelliDep nanoETCH用ソフトウエア | |
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2. 設定数 | 最大30レシピ,30ステップのプログラム作成保存可能 |
3. IntelliLink Windows PC接続用リモートソフトウエア |
nanoETCHチャンバー
nanoETCH front view