nanoPVD-S10A

RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

グラフェン CVD プラズマCVD ウエハーレベル
グラフェン CVD プラズマCVD ウエハーレベル

 

RF/DC
マグネトロンスパッタリング装置

 

高性能RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
3源連続多層膜・2源同時成膜・APC自動圧力制御

 
◉ 到達圧力<5x10-7mbar
◉ 最大3源Φ2"マグネトロンカソード
◉ 自動連続多層膜 2源同時成膜
◉ Windows PC接続 リモートソフトウエア'IntelliLink'付属
◉ コンパクトサイズ:804 (W) x 504 (D) x 559(H)mm

小型・ハイパフォーマンススパッタリング装置

 
高性能RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置。小型ながら一般的な金属膜から酸化膜、絶縁膜など、膜質に妥協を許されないハイパフォーマンスを追求されるユーザーにもご満足いただける装置です。最大3源カソード、自動連続多層膜、同時成膜(*RF-DC, 又はDC-DCの2源同時成膜のみ)も対応。ヒーター、回転・昇降、磁性材料用カソード、APC自動圧力制御などのオプションも豊富です。

用途事例

 

  • 酸化膜、窒化膜、絶縁膜、金属膜、合金膜、透明導電膜
  • 反応性スパッタ(O2, N2
  • 自動連続多層膜(20層/1プログラム, 複数プログラムの連続運転も可能)、同時成膜(2源同時成膜)
  • 化合物 複合多層薄膜(2種混合 RF-DCスパッタ同時成膜)他
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高真空


 

5 x 10-5mbarまで10分以内

機密性高いチャンバ 高真空ポンプ

 
◉ 到達圧力 5x10-7mbar
欠陥が少なく高品質な成膜に欠かせない高真空環境を確保する堅牢で機密性が高いステンレスチャンバー、十分な排気能力を持つ高真空ポンプを採用しています。
 

圧力制御


 

精密なAPC圧力制御

プロセス中の高度な圧力制御が可能

 
◉ APC自動圧力制御(アップストリーム)
スパッタ成膜中に欠かせない精密な圧力調整。手動モードでのMFCガス調整と、数秒で 設定圧力に調整可能な自動モードのいずれもご使用いただけます。
 

多機能


 

充実した基本構成部品

高品質な膜種を実現する各種機能

 
◉ 3カソード、RF/DC電源
最大3カソードで3種までの連続多層膜、2電源(RF-DC、又はDC-DC)の組合せにより化合物薄膜・同時成膜も可能、様々な用途をカバーし開発の幅が広がります。
 

豊富なオプション

膜質向上に寄与する様々な機能

多様なアプリケーションに対応する部品構成

 
充実した基本構成部品に加え、様々なオプションを追加いただけます。
◉ 基板ヒーター(Max500℃)
◉ 傾斜ステージ
◉ グロー放電(*1源のみ)
◉ H2ガス希釈モジュール、等々。
又、ベント速度を向上させる『ファスト・ベント』、瞬停時にプロセス室とバッキングラインを自動遮断する『セイフ・シール』、『磁性材料用高強度マグネットカソード』など、細やかな機能も用意。新材料・新素材開発に寄与する高性能スパッタ装置です。
 

洗練されたソフトウエア

主制御システム 'IntelliDep'

直感的操作 視認性の高い高輝度タッチパネル

 
全ての操作を7inchタッチパネルHMIで行います。扱いやすい操作インターフェイス。操作・データ管理まで全て一箇所で一元管理ができる優れた操作性。初心者から熟練者まで作業者レベルを問わず、安全で再現性の良い成膜作業を行うことができます。
 

マグネトロンスパッタリングカソード

nanoPVD用 傾斜アングル式 Φ2inchカソード

取扱いが簡単 高機能・高品質スパッタカソード

 
Φ2inch nanoPVD-S10A用カソード
ターゲット材料の交換が容易
シールドカバーはターゲット厚さにより設置高さを3段階調整可能
磁性材料用高強度マグネット(オプション)
 

主仕様

  nanoPVD-S10A nanoPVD-S10A-WA
基板サイズ Φ2inch・Φ4inch Φ6inch・Φ8inch
マグネトロンカソード Φ2inch x 1源(標準) 2源増設可能(最大3源)
磁性材料用 高強度マグネットカソード(*オプション)
スパッタ電源 DC850W,
RF150W(自動マッチング付属)
又はDC, RF両電源搭載 
プラズマリレーSw 1:3(1電源入力→3カソード分配)
2:3(2電源入力→3カソード分配) 
真空ポンプ ターボ分子(85L/sec)+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) 
真空計 WRGワイドレンジゲージ、キャパシタンスマノメータ(オプション) 
マスフローコントローラー 1系統(Ar)+ 追加2系統(N2, O2) 
基板回転・昇降 20段階回転速度可変・50mm昇降 
基板加熱 Max500℃ランプ加熱 
水晶振動子膜厚モニター 1基 + 追加1基増設可能 
シャッター 基板シャッター 
電源 200V 三相 30A 50/60Hz 
冷却水 1ℓ/min 18-20℃ 0.2Mpa
プロセスガス 0.15〜0.17Mpa(99.99%推奨)
圧縮空気 0.4〜0.5Mpa
ベントガス N2 (99.99%推奨) 35kpa
'IntelliLink' Windows PC用リモートソフト 付属USBケーブルで装置に接続
・システムライブモニタリング(運転状態モニター)
・膜厚表示
・エラー解析
・オフラインレシピ作成登録 アップロード
・データロギング・CSVフォーマット出力
外形寸法(mm) 804 (W) x 504 (D) x 559(H)
重量(kg) 約50〜70kg(*部品構成による。ポンプは除く)