BH基板加熱ヒーター
PVD、CVD、不活性・還元性ガス
Φ1inch〜Φ6inch
- C/Cコンポジット（Max1800℃）
- SiCコーティング（Max1500℃）
- PGコーティング（Max1800℃）
- カンタル（Max900℃）
- タングステン（Max1600℃）
- タンタル（Max1400℃）
SH基板加熱ヒーター
CVD、HV/UHV、不活性・反応性ガス
Φ1inch〜Φ6inch
- SH-IN：NiCr素線 Inconelプレート
- SH-BN：タングステン素線 BNプレート/Moカバー
- PLDターゲット・カルーセル：
（ターゲット回転機構） - SHヒーター回転機構
CH真空用 円筒状ヒーター
放電プラズマ生成 熱電子銃（Lab6）用
真空プロセス用 超高温加熱ユニット
Max1800℃
- グラファイト（Max1800℃）
- C/Cコンポジット（Max1800℃）
- SiCコーティング（Max1500℃）
- タングステン（Max1600℃）
- タンタル（Max1400℃）
HTE 高真空るつぼ加熱ヒーター・
Max1500℃
真空用高温るつぼ加熱ヒーター
有機・金属蒸着セルとしても応用可能
- 1cc（最大充填量1.5cc）
- 10cc（最大充填量15cc）
- るつぼ：アルミナ、石英、PBN、カーボン
- 水冷機構オプション
- シャッター（圧空、又はモーター駆動）
