MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉

超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃

Φ6inch、Φ8inchウエハーアニール装置

研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機

C/Cコンポジットヒーター	Max2000℃
PGコーティング高純度グラファイトヒーター	Max2000℃

安全性・操作性を向上 Φ6〜8inchウエハー専用超高温ウエハーアニール炉
新素材・材料開発、半導体・電子部品などの研究開発から、小規模生産用途にも幅広く活用いただけます。

最高使用温度：2000℃
加熱範囲：Φ6inch〜Φ8inchウエハー枚葉式
使用雰囲気：真空中、不活性ガス中

C/Cコンポジットヒーター、高純度グラファイト、PGコーティングヒーター
シングルゾーン、又は2ゾーン制御（カスケード制御）
Cタイプ熱電対

PLCセミオート運転（自動真空/パージ、ベントサイクル）
7inchタッチパネル操作

自動バルブ開度焼成（ダウンストリームAPC制御）又は、
MFCガス流量PID自動制御（アップストリームAPC制御）

フローメーター手動調整又は、
MFC（最大3系統）自動調整

1240(W) x 590(D) x 1160(H)mm
*チャンバー部、制御ボックス部含まず

MiniLab-WCF-8" 2 zone heater

MiniLab-WCF-8" SiC coating tray

トップローディングチャンバー

DC電源

プログラム温度調節計、タッチパネルHMI、デジタル真空ゲージ、ヒーター制御回路トリップSWなどを前面操作パネルにコンパクトに収納。

●温度調節計：PF900（理化工業）
●デジタル真空計：ワイドレンジ真空ゲージ
●タッチパネル：Siemens SIMATEC HMI（又は三菱）

タッチパネル	真空引きベントチャンバーOpen/Close Gas In/Out
ヒーターSW	ヒーター制御回路ON/OFF
真空計	WRGデジタル真空計炉内圧力表示単位切替電気炉インターロック設定値
温度調節計	ヒーター温度制御 2ゾーン（カスケード制御 Master-Slave式）
プロセスガス流量調整	MFC1〜MF3 マスフロー自動流量制御、又はフロートメーター/ベローズバルブ手動調整
APCコントロール	圧力設定値 PID操作
グラフ表示	温度、圧力、流量 CSVデータ出力（Windows PC接続） *PC、USBケーブルは付属しません。
使用雰囲気	真空中、不活性ガス（Ar, N2）還元性ガス（H2, He等）

	C/Cコンポジット素線	PGコーティンググラファイト素線
最高使用温度	Max2000℃
断熱材	グラファイト、アルミナ、タングステン、モリブデン、ジルコニアなど（*炉内設計により都度異なります）
真空チャンバー	SUS304 水冷ジャケット式
チャンバー開閉	トップローディング、リニアドライブ駆動開閉式（又はダンパー付き手動開閉）
使用雰囲気	真空中、又は不活性ガス（Ar, N2）
有効加熱範囲	Φ6inch ～ Φ6inch
到達真空度	1x10-2 Pascal（* 但し空炉の場合）
真空ポンプ	ドライスクロールポンプ
真空計	ワイドレンジ真空計（ピラニ、マグネトロンコンビネーションゲージ）大気圧〜10-9 mbar
熱電対	C タイプ熱電対付属（又は、温度条件によりKタイプを付属）
追加熱電対	過昇温用、るつぼ内雰囲気測定用
インターロック	チャンバー過昇温、ヒーター過昇温、冷却水断水、チャンバー開閉、真空度
用力・冷却水	ヒーター定格 8KVA max（* 加熱範囲寸法により異なります）, 冷却水 8ℓ/min 0.4Mpa
装置寸法	1240(W) x 590(D) x 1160(H)mm